产品中心
Products Center
Nikon ArF光刻机
Nikon ArF光刻机利用193nm波长的ArF准分子激光进行曝光，适用于先进的半导体制造工艺，能够支持当前主流的12寸晶圆生产，同时也适应8寸晶圆的生产，可实现更小的特征尺寸，对于提升芯片性能和集成度起到了至关重要的作用，为半导体生产商提供了高精度与高生产效率的解决方案。
产品详情
| 主要机型及参数 | ||||||
| 型号 | 类型 | 分辨率 （μm） |
N.A. | 倍率 | 最大视场 （mm） |
套刻精度 （nm） |
| S308F | 扫描式 | 0.07 | 0.92 | 4:1 | 26*33 | 12 |