产品中心
Products Center
Nikon KrF光刻机
Nikon KrF光刻机使用248nm波长的KrF准分子激光作为曝光光源，适用于更精细的半导体制程，广泛应用于制造高性能的半导体器件，包括微处理器、动态随机存取存储器（DRAM）、以及复杂的逻辑和混合信号芯片等。这些光刻机是实现高精度半导体器件制造的关键设备，在4寸、6寸、8寸和12寸晶圆生产线中发挥着重要作用，为半导体制造商提供了灵活性和高效的生产能力。
产品详情
| 主要机型及参数 | ||||||
| 型号 | 类型 | 分辨率 （μm） |
N.A. | 倍率 | 最大视场 （mm） |
套刻精度 （nm） |
| EX12B | 步进式 | 0.28 | 0.55 | 5:1 | 22*22 | LSA: 55 FIA: 65 |
| EX14C | 0.25 | 0.60 | 5:1 | 22*22 | LSA: 55 FIA: 65 |
|
| S203B | 扫描式 | 0.20 | 0.68 | 4:1 | 25*33 | LSA: 45 FIA: 50 |
| S204B | 0.20 | 0.68 | 4:1 | 25*33 | LSA: 40 FIA: 45 |
|
| S205C | 0.15 | 0.75 | 4:1 | 25*33 | LSA: 35 FIA: 40 |
|
| S206D | 0.13 | 0.82 | 4:1 | 25*33 | 20 | |
| S207D | 0.11 | 0.82 | 4:1 | 26*33 | 20 | |
| S208D | 0.11 | 0.82 | 4:1 | 26*33 | 15 | |