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BNE TC2000
适用于前道光刻工艺KrF、ArF、I-LINE,覆盖先进封装、化合物等领域,可根据客户需求进行设备的定制化开发,以满足客户对于不同产品的需求。
BNE TC1500
适用于前道光刻工艺I-Line,覆盖先进封装、化合物等领域,占地面积极少的4 Spin Unit设备。可根据客户需求进行设备的定制化开发,以满足客户对于不同产品的需求。
TEL中古涂胶显影设备
BNE专业承接TEL多系列涂胶显影设备的全方位服务,涵盖拆机、安装、翻新、软硬件改造、Parts替代开发及维护保养。