产品中心
Products Center
Nikon G线光刻机
Nikon G线光刻机利用436nm光源进行曝光，主要用于半导体制造过程中的图形转移。广泛应用于化合物半导体、MEMS（微电机系统）、LED（发光二极管）等生产领域。支持多种晶圆尺寸的生产，包括但不限于2寸、4寸、6寸晶圆生产线。这些设备能够满足不同规模生产的需求，为半导体制造商提供灵活的解决方案。
Nikon G线光刻机以其成熟的技术和较高的性价比，在半导体制造领域中仍占有一席之地，尤其是在对制程要求不是特别先进的应用场景中。随着技术的发展，虽然更短波长的光刻技术（如KrF、ArF等）逐渐成为主流，但G线光刻机依然在特定市场和应用中保持着其重要性。
Nikon G线光刻机以其成熟的技术和较高的性价比，在半导体制造领域中仍占有一席之地，尤其是在对制程要求不是特别先进的应用场景中。随着技术的发展，虽然更短波长的光刻技术（如KrF、ArF等）逐渐成为主流，但G线光刻机依然在特定市场和应用中保持着其重要性。
产品详情
| 主要机型及参数 | ||||||
| 型号 | 类型 | 分辨率 （μm） |
N.A. | 倍率 | 最大视场 （mm） |
套刻精度 （nm） |
| NSR1505G6D | 步进式 | 0.75 | 0.45 | 5:1 | 15*15 | 140 |
| NSR1505G6E | 0.65 | 0.54 | 5:1 | 15*15 | 140 | |
| NSR1505G7D | 0.75 | 0.45 | 5:1 | 15*15 | 140 | |
| NSR1505G7E | 0.65 | 0.54 | 5:1 | 15*15 | 140 | |
| NSR1755G7A | 0.65 | 0.54 | 5:1 | 17.5*17.5 | 140 | |