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BNE TC5000+

BNE自主研发的匀胶/显影设备TC5000+，适用于直径1200mm以下的非规则、重载基底的匀胶或显影工艺；配备多级安全系统、专业排风及排废系统，确保工艺安全与环境洁净；多层级权限管理体系和灵活的配方设置，便于复杂工艺的管理与调用；搭载多维度实时监控系统。设备还可根据客户特定的基片规格和复杂工艺需求定制方案，以满足客户对于不同产品的需求。

BNE TC1000-SC喷胶机

TEL中古涂胶显影设备

产品详情

手动

全自动

全自动

参数分类	具体技术要求
规格尺寸	超大基底尺寸：≤Φ1200mm，基片厚度1-5mm；同时适用于310x310mm方片、510x515mm方片、550mmx550mm等基底，基片厚度1-30mm；
运动与控制系统	最大带载速度：0-2000 rpm 旋涂加速度：≥200 rpm/sec (空载) 马达转速稳定性能误差：< ±1 rpm 转速调节精度：< 1 rpm 转速重复性：< 1 rpm
工艺功能	匀胶: 膜厚均匀性：片内≤±3% (去除边缘10mm) 针对异形基底具备气流补偿功能同步罩可兼容基片≥500mmx500mm、厚度1-30mm 配置直径1150mm和550550mm30mm方片的载物盘载物盘为内嵌真空吸盘，配备挡柱装置，防止基片在高速旋转中飞出胶液管路：≤4路支持针筒滴胶显影: 胶液管路：≤2路可配置回吸、流量监控、定影功能清洗与干燥：清洗管路：≤2路热板：尺寸：≤Φ1200mm 温度均匀性：50-120℃，≤±1.5℃；120-200℃，≤±3℃ 支持Pin针升降，升降高度范围：0-100mm，支持正负偏离报警其他功能：可配置真空检测开关、急停开关、漏液检测传感器、漏电保护器、振动传感器、噪音传感器、离子风棒等
控制系统	PLC模块：可编程控制器程序容量：≤100组，每组≤100步单步最大时间：3000.0s，时间分辨率0.1s 工艺时间设定：0-999.9 sec/step，精度0.1s 软件终身免费升级
环境	洁净度：Class 10，配备FFU/HEPA 温度：23±1℃ 湿度：40%~60%